안녕하세요. 반도체 회사에 근무 중인 김동조입니다.

소자제작 공정중 O2 플라즈마를 이용하여 표면을 처리하는 부분이 있습니다.

공정 조건은 300w, 300sccm 0.04mbar 이며 친수성을 위한 표면 처리를 하고 있습니다.

제가 궁금한 사항은 일반 상온에서의 표면의 플라즈마 효과가 어느정도 지속이 되는 것인가와,

플라즈마 처리를 한 상태에서 오븐에서 120도 12시간 열처리를 하였을 경우 플라즈마의 효과가 유효한 것인지 궁금합니다.

플라즈마에 관한건 이론적으로만 간단히 알고있었을뿐 회사에 들어오고 처음 사용해 보는 것이라 감이 잘 잡히지 않습니다.

번거로우시겠지만 답변 부탁드립니다.!! 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20190
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
429 자기 거울에 관하여 1139
428 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 824
427 Descum 관련 문의 사항. [1] 3721
426 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 634
425 Plasma Generator 관련해서요. [1] 910
424 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1454
423 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 446
422 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5927
421 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1183
420 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 516
419 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1065
418 RF 변화에 영향이 있는건가요? 17510
417 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 468
416 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 843
415 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 709
414 etching에 관한 질문입니다. [1] 2260
413 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3443
412 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5677
411 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5454
410 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 482

Boards


XE Login