안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 RF 관련 업무를 하는 회사원입니다.

다름이 아니라 RF calibration에 대해 질문 드리고 싶은데요,

RF calibration의 원리와 mechanism이 어떻게 되는건가요?

Open, short, load 소자에 대한 측정값과 기본 응답 값 사이의 차이를 계산해서 보상한다, cable길이에 의한 위상차를 보정하고 주변 잡음에 의한 영향을 상쇄하는 과정이다.

 

정도만 알고 있고, 자세한 메커니즘은 찾아보기 힘들어 질문 드립니다. 그러다보니 캘리브레이션을 할 때 기계적으로 버튼을 누른다는 생각을 지울수가 없네요...

 

calibration 되는 메커니즘에 대한 설명 부탁드립니다!

더불어 고주파(수M~수백MHz) 수준의 주파수를 cal할때 주의점이 있다면, 주의점도 알려주시길 부탁드립니다

 

감사합니다. 새해복많이 받으십시오

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20175
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
429 자기 거울에 관하여 1138
428 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 823
427 Descum 관련 문의 사항. [1] 3721
426 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 633
425 Plasma Generator 관련해서요. [1] 910
424 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1454
423 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 446
422 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5926
421 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1183
420 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 516
419 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1065
418 RF 변화에 영향이 있는건가요? 17510
417 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 468
416 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 842
415 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 709
414 etching에 관한 질문입니다. [1] 2259
413 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3443
412 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5676
411 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5453
410 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 482

Boards


XE Login