안녕하세요?

호서대학교 에너지공학과 재학중인 강병우라고 합니다.

스퍼터링을 공부하다가, 플라즈마에 대해 궁금한게 생겨서 질의 드립니다.

 "플라즈마 구 예시"(링크)

 

플라즈마 구의 경우, 중심부에 음극을 위치시키고, 구 안에 비활성기체를 넣어주고, 고전압을 걸어주면 방전현상이 일어나게 된다까지는 이해가 됩니다.

 

그런데, 스퍼터링의 경우에는 음극과 양극이 위치하고 있어서, 방전으로 인해 생긴 전자가 양극을 통해 흘러서 전자의 흐름이 발생할 것입니다. 스퍼터링 기구 안에서의  전자의 흐름으로 인해 전자기파도 발생하고, 전자가 다른 입자에 부딪혀 여기시키면서 한번더 전자파를 발생시키고, 이로 인해, 플라즈마가 빛을 나타내는 것으로 이해하고 있습니다.

 

그런데, 플라즈마구의 경우에 따로 양극이 없고 유리로 둘러쌓여있는데, 이 전자가 흘러나갈 수 있는 통로가 있나요?

 

손가락을 갖다 대거나 하면, 빛이 손가락 쪽을 향하는데, 그럼 이 플라즈마로 보이는 빛, 즉 전자가 유리를 뚫고, 손가락을 통해 빠져나가는 것인가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
429 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3509
428 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3444
427 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3443
426 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3411
425 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3407
424 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3382
423 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3323
422 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3323
421 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3297
420 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3273
419 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3203
418 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3193
417 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3179
416 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3165
415 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3162
414 CVD 공정에서의 self bias [1] 3098
413 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3052
412 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2970
411 Plasma etcher particle 원인 [1] 2964
410 RF matcher와 particle 관계 [2] 2917

Boards


XE Login