안녕하세요 현재 2차원물질 공정을 연구하는 석사과정 대학원생입니다.

이 공정중에는 플라즈마 처리가 있는데요

power가 커짐에 따라 챔버내부의 빛도 밝아지는 것을 볼수 있는 반면에

압력을 30에서 120mTorr으로 증가시켰을때는 어두워지는 것을 관찰하였습니다.

power와 마찬가지로 압력도 밝기에 비례할것이라고 예상하였는데 어떤 이유가 있는지 궁금합니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75741
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19424
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56652
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67977
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90171
397 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3228
396 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3224
395 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3203
394 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3169
393 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3168
392 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3143
391 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3088
390 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3085
389 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3063
388 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3056
387 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2965
386 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2913
385 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2903
384 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 2824
383 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2813
382 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2775
381 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2752
380 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2749
379 Plasma etcher particle 원인 [1] 2735
378 CVD 공정에서의 self bias [1] 2727

Boards


XE Login