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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64212
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84189
330 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3952
329 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4052
328 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4059
327 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 4245
326 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4263
325 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4382
324 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4619
323 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 4865
322 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4941
321 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5007
320 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5142
319 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5224
318 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5363
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5662
316 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5692
315 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5702
314 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5849
313 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 5942
312 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 5983

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