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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[317]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 22003 |
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap]
[1] | 1977 |
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463 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
[1] | 1993 |
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462 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석]
[1] | 2005 |
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ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율]
[1] | 2006 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
[2] | 2006 |
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459 |
Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장]
[1] | 2013 |
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458 |
Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응]
[1] | 2013 |
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13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [Resonator의 matching]
[1] | 2038 |
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화]
[1] | 2041 |
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455 |
RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization]
[1] | 2047 |
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454 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking]
[1] | 2048 |
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453 |
플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [Breakdown voltage 및 이온화 에너지]
[1] | 2099 |
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쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath]
[1] | 2104 |
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잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님]
[1] | 2122 |
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chamber impedance [장비 임피던스 데이터]
[1] | 2124 |
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RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage]
[3] | 2136 |
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448 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [Ion energy와 heat, sheath energy]
[2] | 2161 |
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447 |
매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산]
[1] | 2176 |
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446 |
안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
[1] | 2178 |
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445 |
Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion]
[1] | 2191 |
