안녕하세요 현재 2차원물질 공정을 연구하는 석사과정 대학원생입니다.

이 공정중에는 플라즈마 처리가 있는데요

power가 커짐에 따라 챔버내부의 빛도 밝아지는 것을 볼수 있는 반면에

압력을 30에서 120mTorr으로 증가시켰을때는 어두워지는 것을 관찰하였습니다.

power와 마찬가지로 압력도 밝기에 비례할것이라고 예상하였는데 어떤 이유가 있는지 궁금합니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
423 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2226
422 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2229
421 etching에 관한 질문입니다. [1] 2243
420 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2247
419 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2247
418 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2252
417 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2258
416 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2270
415 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2275
414 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2280
413 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2289
412 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2292
411 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2294
410 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2295
409 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2299
408 Wafer particle 성분 분석 [1] 2305
407 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2306
406 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2319
405 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2342
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2346

Boards


XE Login