Matcher Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.

2019.07.22 10:20

Seong 조회 수:6269

다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20176
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
429 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2127
428 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2173
427 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2215
426 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2226
425 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
424 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2236
423 플라즈마볼 제작시 [1] file 2236
422 etching에 관한 질문입니다. [1] 2259
421 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2260
420 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
419 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2281
418 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2306
417 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2311
416 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2312
415 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2312
414 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2313
413 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2313
412 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2313
411 Wafer particle 성분 분석 [1] 2320
410 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
쓰기
태그

Boards

XE Login