안녕하세요 세종대학교에 재학중인 학부생 김지현 입니다.

저는 방학동안에 연구실에서 실험을 배우는 중입니다. 저희 연구실은 그래핀에 대해 연구하는 곳입니다.

제가 photo lithography를 배우는 과정중에  산소 플라즈마 처리를 사용하는데, 플라즈마가 무엇인지 궁금하여 공부중입니다.

plasma etching에 대해 찾아보던중에 사용하는 기체들이 용도에 따라서 다른데 그 차이점들을 알고 싶습니다,

그래핀을 O2 플라즈마에서 처리하는데 왜 O2를 사용하는지 궁금합니다. 즉 O2플라즈마의 특성에 대해 궁금합니다. 

그리고 질소플라즈마와 아르곤 플라즈마의 특성과 차이점이 무엇인지 궁금합니다. 

질문이 다소 복잡해서 다시 정리하자면 플라즈마 에칭 공정을 할때 용도에 따라 다른 기체들을 사용하는데, 어떠한 특성때문에 

다른지 궁금합니다. 


감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
423 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2225
422 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2228
421 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2243
420 etching에 관한 질문입니다. [1] 2243
419 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2247
418 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2250
417 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2252
416 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2270
415 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2274
414 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2278
413 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2285
412 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2292
411 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2293
410 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2294
409 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2295
408 Wafer particle 성분 분석 [1] 2304
407 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2306
406 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2318
405 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2340
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2345

Boards


XE Login