안녕하세요 현재 2차원물질 공정을 연구하는 석사과정 대학원생입니다.

이 공정중에는 플라즈마 처리가 있는데요

power가 커짐에 따라 챔버내부의 빛도 밝아지는 것을 볼수 있는 반면에

압력을 30에서 120mTorr으로 증가시켰을때는 어두워지는 것을 관찰하였습니다.

power와 마찬가지로 압력도 밝기에 비례할것이라고 예상하였는데 어떤 이유가 있는지 궁금합니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5816
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17283
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53107
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85109
338 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2649
337 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2588
» 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2539
335 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2538
334 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 2482
333 PR wafer seasoning [1] 2478
332 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 2464
331 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2452
330 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2446
329 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2445
328 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2413
327 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 2391
326 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2339
325 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 2300
324 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2266
323 임피던스 매칭회로 [1] file 2264
322 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2243
321 Plasma etcher particle 원인 [1] 2240
320 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2234
319 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2232

Boards


XE Login