Sheath LF Power에의한 Ion Bombardment

2021.06.24 22:36

PEOX 조회 수:2015

안녕하십니까 교수님!!.

가입없이 게시판으로 많은 가르침을 받아가다가 이제서야 질문이 있어 가입후 글을 쓰게 되었습니다.

 

PECVD에서..

HF는 electron 온도 증가로 인한 plasma density 향상

 

LF POWER의 증가는 ion bombardment 를 증가시켜 박막이 더 dense 해져 stress가 더 compressive쪽으로 간다라고 이해하는게 맞는 걸까요? 

density가 높아지는데 compressive한 stress를 가진다고 하는 매커니즘이 잘 이해가 되질 않습니다.

(density가 높으면 (더 빽빽하게 증착되면) 밀려서 사이드쪽으로 늘어날려고 해서 compressive 스트레스를 가진다라고 혼자 이해했는데 맞는건지요.

 

막질의 density가 올라가면 compressive한 스트레스를 가지는게 항상 그런건지

(원래 Tensile한 막질이더라도 LF power 증가하면 Compressive한 방향으로 바뀌나요?)

 

아니면 막질마다 그 효과가 다른건지 궁금합니다. 

 

 

 

추가로 HF영역에서는 frequency가 높으니 유효질량이 작고 mobility가 빠른 electron에 에너지를 더 가해주기 쉽고 

반대로 LF영역에서는  frequency가 낮으니 상대적으로 질량이 크고 느린 ion에 에너지를 가해주기 쉽다고 이해하는게 맞는걸까요?

 

 

 

질문자체에 잘 못된 점이 있다면 바로 잡아주시면 감사하겠습니다!.  

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
769 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 68
768 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 232
767 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 124
766 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 80
765 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 169
764 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 318
763 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 352
762 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 198
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 205
760 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 549
759 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 548
758 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
757 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 405
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 189
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 250
754 PECVD Uniformity [1] 503
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 634
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 248
751 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 359
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 308
쓰기
태그

Boards

XE Login