Etch DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.

2018.11.28 12:00

최균호 조회 수:2313

안녕하십니까

저는 DRY Etch 하부 정전척(ESC) 세정/재생 업체에 다니고 있는 최균호 라고 합니다.

고객사에 납품하여 Run중인 ESC에서 He Flow라는 알람이 자주 발생하여 문의 드립니다.

상부 Glass면과 ESC 사이에 Cooling을 위한 He Gas를 공급하는데

공급 과정 중 He Pressure의 이상이 있을 때 발생하는 것이 He Alaram 입니다.

He Flow 발생품 입고 검사 시 Glass를 안착시키는 Dam부 및 Cooling 면의 외관적인 문제점은 존재 하지 않고

전기적인 특성조차 큰 특이점을 찾아 볼 수 없습니다.

고객사 측에서도 뚜렷한 원인은 알 수 없다고 하네요.


Cooling Gas Flow (Gas Leak) 발생 원인이 대체로 무엇인지, 그에 따른 해결 방안을 가지고 계신다면

알려 주실 수 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
162 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
161 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1370
160 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 272
159 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 354
158 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 398
157 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
156 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1008
155 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 364
154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28719
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 736
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 980
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 595
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1844
147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 544
146 Polymer Temp Etch [1] 659
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 470
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1056
쓰기
태그

Boards

XE Login