CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20178 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57166 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68697 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92275 |
769 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 68 |
768 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 232 |
767 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 123 |
766 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
765 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 169 |
764 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 318 |
763 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 351 |
762 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 197 |
761 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 205 |
760 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 548 |
759 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 547 |
758 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
757 | CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] | 405 |
756 | 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] | 189 |
755 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 250 |
754 | PECVD Uniformity [1] | 503 |
753 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 634 |
752 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 248 |
751 | standing wave effect, skin effect 원리 [1] | 358 |
750 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 307 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.