Chamber component 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件
2020.12.10 23:26
안녕하세요.
반도체 장비를 생산하는 업체의 연구실 소속 최재혁이라고 합니다.
자사가 생산하는 제품중에 오존 발생기가 있으며 이 생산 제품의 주요 부품에 대해서는
전량 수입에 의존 하고 있습니다.
언급된 주요 부품에 대해서 설명을 드리면 Chamber로 이루어진 발생장치 안에 O2를
주입하고 촉매제와 플라즈마를 이용하여 O3를 발생시키는 역할로서 발생기의 핵심이라
고 할 수 있습니다.
자사 보안 규정에 따라 자세한 내용을 설명드릴 수 없는 점 양해를 부탁 드립니다,
핵심 기술에 대한 위탁 및 공동 연구개발을 계획하고 있습니다.
교수님께서 시간이 되시면 저희 회사 인원과 함께 찾아 뵙고 프레젠테이션을 진행 했으
합니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76713 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20170 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68694 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92269 |
768 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 232 |
767 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 123 |
766 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 79 |
765 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 169 |
764 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 318 |
763 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 350 |
762 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 196 |
761 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 205 |
760 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 546 |
759 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 545 |
758 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
757 | CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] | 404 |
756 | 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] | 187 |
755 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 250 |
754 | PECVD Uniformity [1] | 500 |
753 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 634 |
752 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 248 |
751 | standing wave effect, skin effect 원리 [1] | 357 |
750 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 306 |
749 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 698 |
연구원님, 아쉽지만 저희가 오래 전에 이온나이저 관련 연구를 했었어서, 낡은 지식밖에 남아있지 않습니다. 저희가 별 도움이 되지 못할 것 같습니다. 오존발생기에 대해서는 KIST에 한승희박사님을 추천드립니다. 역시 오래전에 오존발생기에 대해서 깊은 연구를 수행하신 경험이 있으신 것으로 알고 있습니다. 문의, 감사합니다.