Plasma in general Co-relation between RF Forward power and Vpp
2022.04.27 17:35
Hello,
I am working on a ALD (Atomic layer deposition) product wherein we are processing multiple wafers in the single reactor.
When we supply RF power to one of the reactor (i.e. REACTOR 1), the other reactor (REACTOR 2) beside reactor 1 is showing high Vpp value. We are not supplying RF power to reactor 2. (Please note reactor 1 & reactor 2 share the gas flow volume and are not fully isolated)
Why would this be happening ?
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20173 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57166 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92275 |
| 769 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 68 |
| 768 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 232 |
| 767 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 123 |
| 766 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
| 765 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 169 |
| 764 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 318 |
| 763 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 351 |
| 762 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 197 |
| 761 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 205 |
| 760 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 547 |
| 759 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 547 |
| 758 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
| 757 | CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] | 405 |
| 756 | 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] | 189 |
| 755 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 250 |
| 754 | PECVD Uniformity [1] | 502 |
| 753 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 634 |
| 752 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 248 |
| 751 | standing wave effect, skin effect 원리 [1] | 358 |
| 750 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 306 |
It seems to be an RF ground issue, and check it.