안녕하세요 교수님

반도체 후공정 회사를 다니고 있는 직장인입니다.

 

공정 진행 후 leakage test 결과 leakage current가 높게 나온 문제점이 발생하였습니다.

내부 엔지니어 문의 결과 O2 descum공정이 metal residue를 없애는데 도움을 준다는 답변을 받았습니다.

따라서 추가적으로 O2 descum을 진행했지만, leakage 문제는 개선되지 않았습니다.

metal residue를 없애기 위해 다른 가스(Ar, H2N2, CF4 등)를 이용한 플라즈마가 더 효과적인지 알고싶어 질문드립니다.

 

혹은, leakage를 개선할 수 있는 방법이 있다면 조언해주시면 감사드립니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3648
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15342
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62996
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82130
649 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 274
648 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 275
647 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 275
646 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 283
645 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 286
644 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 292
643 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 313
642 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 323
641 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 323
640 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 329
639 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 329
638 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 334
637 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 337
636 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 337
635 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 338
634 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 340
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 341
632 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 344
631 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 346
630 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 346

Boards


XE Login