안녕하세요,

반도체 업체에서 PVD, Descum을 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

원래 담당이 Plasma 계열이 아니라 많은 것들이 부족하여 찾아찾아 이곳까지 발을 들이게 되었습니다. 궁금한 사항은 하기와 같습니다.

-. 현재 ICP type plasma 장비를 사용하고 있습니다.

-. ICP 설비 사용함에 있어 RF를 사용하여 coil에 bias를 인가함으로  plasma를 발생시키는 것과, platen(chuck)에 bias를 인가 하여 (-)극으로 만드는 것까지는 이해하고 있습니다.


==>  여기서, RF bias인가를 통해 platen이 (-)극으로 변경되었을 때, DC bias라는 명칭이 사용되는데(장비상 display, Vdc 또는 DC bias), 이 부분이 self bias를 통해 생성되는 bias라고 생각하면 되는 것인가요?

==> 그리고 Vdc 또는 DC bias로 display되는 전압이 혹시 DC 전원을 사용한 plasma와 동일한 영향력을 가지고 있는지 궁금합니다.

==> 영향력이 의미하는 부분은 DC 전원 사용하여 만든 음극은 electrode에 민감한 MEMS 자재를 작업하기엔 어렵기 때문에, 혹시 RF bias로 만든 DC bias가 DC전원을 사용했을 때와 동일한 effect를 가지는지가 궁금합니다.


답변주시면 감사드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76541
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20077
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
81 문의 드립니다. [1] 858
80 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 925
79 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 952
78 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1025
77 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1062
76 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1124
75 Group Delay 문의드립니다. [1] 1135
74 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1216
73 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1268
72 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1382
71 플라즈마 관련 교육 [1] 1384
70 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1414
69 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1442
68 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1550
67 질문있습니다. [1] 2545
66 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3362
65 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3394
64 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3673
» ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3915
62 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4127

Boards


XE Login