Etch Plasma etch관련 질문이 드립니다.
2020.05.22 08:28
안녕하세요. 교수님.
국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.
설비를 운용하다 궁금한 사항이 있어 문의드립니다.
1. RF Bias에 의해 etch가 진행되는 경우, wafer가 안착되는 Chuck의 면적과 Etch량과의 상관관계가 있는지 문의드립니다.
2. 1번과 비슷한 질문입니다. 12inch /8inch 2wafer가 아닌 Panel type의 etch를 진행할 때,
가로와 세로의 길이가 다른경우(ex 300x400mm), 300mm의 edge면과 400mm의 edge면의 E/A가 달라질 수 있는건지 문의드립니다.
항상 도움이되는 답변감사드립니다.
즐거운 하루 보내세요.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76685 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68680 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92210 |
| 162 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 400 |
| 161 | PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] | 423 |
| 160 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 463 |
| 159 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 471 |
| 158 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 479 |
| 157 | PECVD Uniformity [1] | 491 |
| 156 | Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] | 494 |
| 155 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 540 |
| 154 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1]  | 544 |
| 153 |
RF Sputtering Target Issue
[2] | 592 |
| 152 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 602 |
| 151 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 605 |
| 150 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 607 |
| 149 |
Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다.
[1] | 635 |
| 148 | Polymer Temp Etch [1] | 652 |
| 147 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 668 |
| 146 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 693 |
| 145 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
| 144 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 706 |
| 143 | ICP 후 변색 질문 | 723 |