안녕하세요 플라즈마 소스개발을 하고 있는 김상규라고 합니다.

전자기장 시뮬레이션을 통해 ICP Source 를 개발 중에 있습니다만 이해가 되지 않는 부분이 있어 질문 드립니다.

조건 : 1000mm X 1000mm chamber , process gap 250mm , icp source , H-field 관측 , Source only (bias x)

현상 : 상부 Antenna 근처에서 측정(antenna로 부터 30mm)  Map 이 center high 인데 substrate (substrate 표면으로 부터 5mm) 로 내려오  면 center 가 low 가 됨. (stage 에 절연층을 쌓아도 비슷함)

질문 : side, 4corner 가 low 로 되는 것은 챔버 벽면으로 electron 이 빠져나가면서 그럴수 있다고 생각 됩니다만

          왜 Chamber 벽면에서 가장 먼 가장자리(substrate center position) 의 field 가 약해지는 것 인지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
763 corona model에 대한 질문입니다. [1] 168
762 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 169
761 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 181
760 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
759 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 186
758 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 191
757 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 191
756 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 199
755 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 209
754 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 222
753 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 223
752 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 231
751 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 235
750 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 238
749 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 262
748 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 287
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 297
746 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 297
745 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 299
744 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 304

Boards


XE Login