안녕하세요, 교수님.

현재 반도체 업체에서 근무중인 엔지니어입니다.

현재 Clean 조건은 High pressure 및 Low pressure Clean을 사용하고 있습니다.

혹시 High Pressure Clean 진행 간 Showerhead와 Heater간 간격이 조금 더 넓어지면 Clean 효율에 문제가 있을까요?
 Ex) 10mm → 13mm

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [301] 77991
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20815
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57727
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69236
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93616
796 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 131
795 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 136
794 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 137
793 플라즈마 설비에 대한 질문 138
792 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 145
791 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 153
790 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 156
789 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 161
788 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 163
787 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 165
» Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 168
785 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 170
784 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 171
783 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 172
782 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 176
781 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 181
780 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 182
779 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 183
778 corona model에 대한 질문입니다. [1] 187
777 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 188

Boards


XE Login