반도체업종에서 종사하고있고 얕으나 RF를 이용한 Plasma에 대해 공부를 하는 사람입니다.

질문은 플라즈마 반응용기내에서 발생되는 플라즈마는 빛을 발생시키는데 쉬스영역은 하전입자 밀도가 낮기 때문에

발광현상이 없다고 알고있습니다. 또 쉬스는 부도체, Floating된 물체 표면에 플라즈마를 감싸는 형태로 존재한다고

알고있습니다. 그렇다면 플라즈마 반응용기는 Bulk 플라즈마를 제외하고 모든 영역이 쉬스로 감싸져있다고

생각하면 틀린건가요?

또 만약 쉬스가 반응용기내에서 Bulk 플라즈마를 감싸고 있는 형태라면 반응용기를 관찰하기 위한 Glass view port또한

감싸져 있을텐데 view port에서는 Bulk 플라즈마에서 발생되는 빛이 보입니다. 이건 어떻게 이해해야 될까요?

이해하기 쉽게 설명좀 부탁드립니다. 감사합니다.^^

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
403 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2357
402 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2388
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2417
400 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2425
399 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
398 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2469
397 Si Wafer Broken [2] 2472
396 질문있습니다. [1] 2545
395 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2566
394 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2571
393 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2604
392 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2617
391 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2663
390 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2670
389 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2675
388 PR wafer seasoning [1] 2694
387 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2716
386 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2720
385 임피던스 매칭회로 [1] file 2789
384 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2805

Boards


XE Login