반도체업종에서 종사하고있고 얕으나 RF를 이용한 Plasma에 대해 공부를 하는 사람입니다.

질문은 플라즈마 반응용기내에서 발생되는 플라즈마는 빛을 발생시키는데 쉬스영역은 하전입자 밀도가 낮기 때문에

발광현상이 없다고 알고있습니다. 또 쉬스는 부도체, Floating된 물체 표면에 플라즈마를 감싸는 형태로 존재한다고

알고있습니다. 그렇다면 플라즈마 반응용기는 Bulk 플라즈마를 제외하고 모든 영역이 쉬스로 감싸져있다고

생각하면 틀린건가요?

또 만약 쉬스가 반응용기내에서 Bulk 플라즈마를 감싸고 있는 형태라면 반응용기를 관찰하기 위한 Glass view port또한

감싸져 있을텐데 view port에서는 Bulk 플라즈마에서 발생되는 빛이 보입니다. 이건 어떻게 이해해야 될까요?

이해하기 쉽게 설명좀 부탁드립니다. 감사합니다.^^

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] 4887
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16227
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63747
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83513
298 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2007
297 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 1961
296 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 1953
295 Wafer particle 성분 분석 [1] 1926
294 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1911
293 플라즈마볼 제작시 [1] file 1890
292 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 1878
291 Load position 관련 질문 드립니다. [2] 1873
290 Si Wafer Broken [2] 1844
289 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1804
288 가입인사드립니다. [1] 1799
287 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1793
286 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 1784
285 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1777
284 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1755
283 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1730
282 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1717
281 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 1710
280 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 1695
279 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1683

Boards


XE Login