Others analog tuner관련해서 질문드립니다.
2017.03.07 16:14
안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.
pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side와 bottom에 달았습니다.
여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75788 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19472 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56679 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68067 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90361 |
378 | VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] | 2737 |
377 | Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] | 2724 |
376 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 2687 |
375 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2678 |
374 |
임피던스 매칭회로
[1] ![]() | 2676 |
373 | PR wafer seasoning [1] | 2650 |
372 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2618 |
371 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2579 |
370 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2554 |
369 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2512 |
368 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2474 |
367 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1] ![]() | 2466 |
366 | 질문있습니다. [1] | 2453 |
365 | RF matcher와 particle 관계 [2] | 2428 |
364 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2366 |
363 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2366 |
362 | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2365 |
361 | 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] | 2353 |
360 | Load position 관련 질문 드립니다. [1] | 2344 |
359 | Ta deposition시 DC Source Sputtreing | 2343 |
저희는 잘 모르는 jargon 입니다. Tuner가 power 혹은 impedance를 맞추기 위한 추가 tunning knob을 의미하는지는 모르겠습니다, 다만 장치가 제공하는 공정 중에 plasma 상태에 따른 피막의 스트레스 성분에 대한 자료가 있어야 이를 사용할 수 있을 것이라는 생각이 듧니다. 자료가 충분히 제공이 되지 않았다면, 박막 재료 하시는 분과 먼저 논의하기를 추천합니다. 저희는 박막의 특성을 잘 모르며, 박막 플라즈마를 다룬 경험이 많지 않습니다만, 박막 플라즈마를 하는 연구실에서는 알 수도 있는 일입니다. 다만 관련 플라즈마 정보를 얻기가 쉽지 않으므로, tunning의 원리를 찾기에는 연구가 필요할 것으로 예상합니다.