번호 제목 조회 수
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69024
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93138
435 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3096
434 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2984
433 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2965
432 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2939
431 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2924
430 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2891
429 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2878
428 임피던스 매칭회로 [1] file 2870
427 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2754
426 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2753
425 PR wafer seasoning [1] 2727
424 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2715
423 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2715
422 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2615
421 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2613
420 질문있습니다. [1] 2604
419 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2602
418 Si Wafer Broken [2] 2602
417 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2556
416 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2544

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