Matcher 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다.
2016.08.14 00:39
안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.
GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.
Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.
이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.
좋은 하루 되세요.
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20181 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68698 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92276 |
| 409 | HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] | 2891 |
| 408 | HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? | 2873 |
| 407 | VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] | 2871 |
| 406 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 2819 |
| 405 |
임피던스 매칭회로
[1]  | 2804 |
| 404 | 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] | 2779 |
| 403 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2765 |
| 402 | [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] | 2742 |
| 401 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2727 |
| 400 | PR wafer seasoning [1] | 2701 |
| 399 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2686 |
| 398 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2643 |
| 397 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2633 |
| 396 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2581 |
| 395 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1] | 2579 |
| 394 | 질문있습니다. [1] | 2571 |
| 393 | Si Wafer Broken [2] | 2511 |
| » | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2493 |
| 391 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2475 |
| 390 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2453 |