Etch DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect]
2018.11.28 12:00
안녕하십니까
저는 DRY Etch 하부 정전척(ESC) 세정/재생 업체에 다니고 있는 최균호 라고 합니다.
고객사에 납품하여 Run중인 ESC에서 He Flow라는 알람이 자주 발생하여 문의 드립니다.
상부 Glass면과 ESC 사이에 Cooling을 위한 He Gas를 공급하는데
공급 과정 중 He Pressure의 이상이 있을 때 발생하는 것이 He Alaram 입니다.
He Flow 발생품 입고 검사 시 Glass를 안착시키는 Dam부 및 Cooling 면의 외관적인 문제점은 존재 하지 않고
전기적인 특성조차 큰 특이점을 찾아 볼 수 없습니다.
고객사 측에서도 뚜렷한 원인은 알 수 없다고 하네요.
Cooling Gas Flow (Gas Leak) 발생 원인이 대체로 무엇인지, 그에 따른 해결 방안을 가지고 계신다면
알려 주실 수 있을까요?
정전척에서 helium은 wafer cooling 용으로 사용이 됩니다. 열전도도가 매우 좋은 가스 (0.1513 W/(mK)이자, 불활성 가스로 화학 반응을 적게 하기 때문입니다. 원소가 작아서 leak를 차즌 detector에도 사용하는 가스이므로, 반대로 leak.가 잘 생길 여지가 큽니다. 대부분의 정전척은 플라즈마 전하가 쌓이고 빠지는 곳으로 전하기 쌓이면 높은 표면 전압을 형성하고 이는 국부적으로 방전을 일으킵니다. 대부분 스트리머 형태의 코로나 방전으로 지속되면 아크 방전으로 변해서, 아크가 튀었다라고 할 수 있습니다. 만일 O ring 결합 부 근처에서 이런 현상이 발생하였다면, leak 원인이 될 가능성이 큽니다. 따라서 재조립시 leak detect를 하는 방법을 추가하는 것이 좋을 듯 합니다.
아마도 현업에서는 보다 다양한 leak 원인이 있을 것입니다. 현업에서의 경험과 대응책을 본 란에서 공유할 수 있기를 희망합니다.