안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57150
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68670
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92179
407 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2888
406 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
405 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2867
404 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2812
403 임피던스 매칭회로 [1] file 2798
402 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2759
401 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2755
400 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2730
399 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2725
398 PR wafer seasoning [1] 2699
397 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2684
396 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2632
395 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2626
394 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2580
393 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2574
392 질문있습니다. [1] 2566
391 Si Wafer Broken [2] 2500
390 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2489
389 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2466
388 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2436

Boards


XE Login