Plasma in general 플라즈마 기술관련 문의 드립니다
2021.01.08 17:45
안녕하세요
현재 기업에 다니고 있는 회사원입니다
표면처리기술 과련 하여 공부하던 중 플라즈마 기술을 보고 문의드립니다
1. water나 유기용매에 분산되어 있는 나노 입자에 플라즈마 처리 가능한가?
2. 30nm 이하의 분말형태의 시료에도 플라즈마 처리가 가능하가?
목표는 30nm 이하의 입자에 표면처리를 통해 특정 물성을 갖게 하는 것인데,
입자 전체에 플라즈마 처리를 하고 싶은데 분말일때 플라즈마 처리가 고르게 이루어지지 않을 것 같아
위와 같은 질문을 드립니다
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76728 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20190 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
409 | Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] | 2325 |
408 | 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? | 2327 |
407 | 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] | 2332 |
406 | CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] | 2342 |
405 | Ta deposition시 DC Source Sputtreing | 2360 |
404 | RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] | 2379 |
403 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 2396 |
402 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2432 |
401 | Load position 관련 질문 드립니다. [1] | 2436 |
400 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2453 |
399 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2476 |
398 | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2493 |
397 | Si Wafer Broken [2] | 2511 |
396 | 질문있습니다. [1] | 2572 |
395 | 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] | 2579 |
394 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2581 |
393 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2633 |
392 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2644 |
391 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2686 |
390 | PR wafer seasoning [1] | 2701 |
나노 분말 생성 및 제어 연구는 성균관대학교 김태성교수님께 문의드려 보시기 바랍니다. 도움을 받으실 수 있을 것 같습니다.