Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지]

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:2218

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.

 

요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.

 

참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [318] 83311
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22082
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58847
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96634
445 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2200
444 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2202
» 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 2218
442 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2245
441 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2247
440 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2260
439 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2260
438 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성] [1] 2266
437 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2281
436 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2294
435 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치] [1] 2299
434 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2310
433 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2314
432 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2324
431 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2341
430 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해] [1] 2352
429 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2394
428 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2414
427 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2418
426 LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리] [2] 2439
쓰기
태그

Boards

XE Login