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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[265]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20076 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57115 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68613 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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383 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2924 |
382 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 2292 |
381 |
Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정
| 340 |
380 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
| 4294 |
379 |
Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미
[1] | 1017 |
378 |
고진공 만드는방법.
[1] | 1001 |
377 |
PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요
[1] | 423 |
376 |
플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성
[2] | 689 |
375 |
플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다.
[1] | 1317 |
374 |
Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
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373 |
코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다
[1] | 757 |
372 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1] | 5734 |
371 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 2716 |
370 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 3379 |
369 |
활성이온 측정 방법
[1] | 570 |
368 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
[1] | 1449 |
367 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 2199 |
366 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1716 |
365 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 2294 |
364 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1903 |