안녕하세요 교수님.

Display 회사에서 근무중인 김민철입니다.

제가 질문드리고자 하는 내용은 a-Si표면에 N2 Blowing Ionizer 사용 시 어떤 반응이 생기는지에 대해 궁금증이 있어 문의드립니다.

Display 공정 중 Excimer laser annealing 전에 Ionizer를 진행 하는데 이때 정전기 제거가 아닌 다른 영향을 줄 수 있는가에 대해 연구중입니다.

아래 다른 게시글을 참조해보니 N2 Ionizer 사용 시  N2가 분해되어 (+)이온이된다고 하셨는데 이러한 이온이나  N, O, electron 등이  a-Si 표면에 있는 Si의 dangling bond와 결합을 할수있는 지가 궁금 합니다.

이를 통해 후공정으로 진행하는 Excimer laser annealing을 진행할 때, Si의 결정화에 영향을 미칠지가 궁금합니다.

만약 영향을 줄 수 있다면 Si의 어떤 결합이 생기고 반도체의 성질에 어떤 영향이 있을지요 (ex) 불순물로 인한 Doping 장벽 역활 등등...

논문이나 자료를 찾기위해 플라즈마와 관련하여 검색중에 교수님 이름이 많아 조언 부탁드리게 되었습니다.

바쁘실테지만 상기 내용에 대해서 조언 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
383 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2417
382 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2387
381 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2357
380 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2345
379 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2340
378 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2318
377 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2306
376 Wafer particle 성분 분석 [1] 2304
375 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2296
374 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2294
373 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2293
372 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2292
371 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2289
370 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2278
369 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2274
368 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2270
367 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2252
366 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2250
365 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2247
364 etching에 관한 질문입니다. [1] 2243

Boards


XE Login