안녕하세요, 플라즈마에 대해서 공부 중인 학생입니다.

다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각 장치에서 바이어스 전극에 저주파 전력을 인가함으로써, 이온 입사에너지를 증대된다고 배웠는데요. 어떠한 이유로 저주파 전력을 인가시, 이온 입사 에너지가 증대되는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

그리고, 다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각장치에서 전극에 고주파 전력을 인가함으로써, 플라즈마 밀도에 정상파 효과가 발생한다고 해당 랩의 논문에서 읽었는데요. 어떠한 이유로 정상파 효과가 발생하고, 고주파 전력을 100MHz --> 60MHz로 변경시 정상파 효과가 줄어드는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

답변을 주시면, 공부하는데 많은 도움이 될 것같습니다.  답변을 부탁드립니다.(- -)(_ _)(- -)

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
383 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2418
382 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2388
381 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2357
380 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2346
379 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2342
378 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2319
377 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2306
376 Wafer particle 성분 분석 [1] 2305
375 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2299
374 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2295
373 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2294
372 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2292
371 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2289
370 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2280
369 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2275
368 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2270
367 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2258
366 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2252
365 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2247
364 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2247

Boards


XE Login