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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69141
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416 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2521
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413 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2483
412 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2463
411 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2457
410 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2452
409 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2441
408 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2434
407 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2431
406 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2427
405 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2424
404 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2404
403 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2392
402 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2388
401 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2387
400 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2382
399 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2371
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