ICP 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?

2017.03.31 11:28

메탈 조회 수:1900

안녕하세요. s전자 송용재입니다.

ICP type 챔버과련 문의 드립니다.

1. RF source power(상단)를 인가하게 되면 전기장이 절연체를 통해 투과하여 plasma가 형성이 됩니다.

   책을 보면 플라즈마내 이온의 에너지는 거의 없고 , 전자는 가속이 된다고 하는데..

   전자만 전기장에 영향이 있는건가요?? 아님 전자의 mobility영향에 따른 상대적인 표현인건가요?

2. 저희 회사의 장비는 endura model icp type RF 장비를 사용하고 있습니다.

    RF bias power쪽은 generator - matcher - chamber 로 power가 들어오는데

    RF source power는 generator - resonator - chamber 로 power전달이 됩니다.

    resonator로 source power부분의 reflect power를 조정하는데 어떤 원리로 조정이 가능한건지 궁금합니다.

    오래된 장비다보니 관련 자료를 업체에서 얻을수도 없네요..

    resonator tap이라는걸 이용해 Coil에 감겨있는 거리에 따라 reflect power가 변한다고 하는데 원리를 모르겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20175
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
389 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2435
388 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2432
387 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2392
386 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2378
385 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
384 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2342
383 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2329
382 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2327
381 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2325
380 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
379 Wafer particle 성분 분석 [1] 2319
378 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2313
377 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2313
376 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2313
375 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2312
374 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2312
373 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2310
372 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2305
371 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2281
370 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270

Boards


XE Login