Others Microwave 장비 관련 질문

2013.08.20 16:19

jangew 조회 수:8561

안녕하세요 현재 반도체 관련 회사에 재직중인 직장인 입니다.

 

현재 저희 회사에서 Microwave 장비(Generator, RPS)에 관련 하여 시장 및 현 상황에 대한 조사를 하고 있습니다.

반도체 공정 (CVD,Etch,LCD) 쪽으로의 어느정도의 수요는 확인 되었지만 Microwave 를 사용한 Plasma 발생 하는 장비의 수가 (RF대비)  상대적으로  적은것으로 조사가 되었습니다.

제 짧은 지식으로는 공정의 Concept 가 중요하겠지만, Impedance matching 문제, 도파관 사용에 의한 설치문제, 그리고 2.45Ghz 라는 주파수의 Radical 적인 문제로 사용하는 수가 적은것으로 생각됩니다.

제 짧은 생각이 맞는지 궁금합니다. 그리고 반도체 공정 뿐만 아닌 다른 분야에서도 현재 사용되는 곳이 있는지 궁금합니다.

 

황당한 질문일수도 있겠지만 답변 부탁드립니다^^

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
383 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2417
382 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2388
381 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2357
380 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2346
379 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2341
378 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2318
377 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2306
376 Wafer particle 성분 분석 [1] 2305
375 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2298
374 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2295
373 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2294
372 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2292
371 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2289
370 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2279
369 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2275
368 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2270
367 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2258
366 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2250
365 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2247
364 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2246

Boards


XE Login