질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92262 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68690
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92262
388 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2737
387 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2763
386 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2770
385 임피던스 매칭회로 [1] file 2804
384 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2815
383 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
382 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2870
381 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2889
380 RF matcher와 particle 관계 [2] 2912
379 Plasma etcher particle 원인 [1] 2962
378 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2966
377 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3052
376 CVD 공정에서의 self bias [1] 3093
375 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3162
374 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3165
373 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3177
372 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3188
371 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3200
370 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3269
369 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3287

Boards


XE Login