Deposition 플라즈마 데미지에 관하여..

2012.09.24 18:00

TFEML 조회 수:6492

안녕하십니까,

저는 한양대학교 신소재공학과에서 석박 생활을 하고 있는 학생입니다.

다름이 아니오라 제가 진행하고 있는 실험에 대하여 소자 특성저하에 여러가지 변수 중

플라즈마 데미지 라는 부분을 확인해 보기 위하여 검색을 하다가 플라즈마 응용연구실 Q&A 를 이용하게 되었습니다.

저는 TFT를 연구하고 있는데, 궁금한점이 있습니다.

Passivation- Free 상태의 TFT 즉 바텀 게이트를 이용하는 TFT의 채널층이 노출된 상태에서

PECVD 를이용하여 40W 100도 공정을 이용하여 약 1시간 정도SiNx 를 Deposition 할 경우

처음에 열려 있는 채널층에 플라즈마 데미지에 의하여 이온이 차지가 된다거나 기타 다른 차지들이 채널층에

데미지를 줄 수 있을까요../?

궁금한 마음이 급하여 두서없이 작성했습니다.

혹 실례가 되지 않는다면 답변 부탁드리겠습니다. 감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20172
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92274
389 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2727
388 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2742
387 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2764
386 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2778
385 임피던스 매칭회로 [1] file 2804
384 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2816
383 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2870
382 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2873
381 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2890
380 RF matcher와 particle 관계 [2] 2915
379 Plasma etcher particle 원인 [1] 2964
378 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2967
377 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3052
376 CVD 공정에서의 self bias [1] 3095
375 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3162
374 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3165
373 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3178
372 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3191
371 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3202
370 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3271
쓰기
태그

Boards

XE Login