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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20147 |
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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387 |
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 2427 |
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386 |
Load position 관련 질문 드립니다.
[1] | 2424 |
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385 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 2368 |
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384 |
RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 2366 |
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383 |
Ta deposition시 DC Source Sputtreing
| 2358 |
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382 |
CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다
[1] | 2334 |
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381 |
플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는?
| 2327 |
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380 |
임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[4] | 2323 |
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379 |
Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련.
[1] | 2316 |
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378 |
Wafer particle 성분 분석
[1] | 2312 |
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377 |
안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다.
[1] | 2306 |
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376 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 2306 |
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375 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 2305 |
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374 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 2305 |
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373 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
[1] | 2304 |
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372 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
[1] | 2297 |
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371 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 2293 |
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370 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 2285 |
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369 |
RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문
| 2280 |
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368 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 2262 |
