ESC Si Wafer Broken

2018.08.01 11:16

장영구 조회 수:2259

안녕하세요. 반도체회사에 다니고 있습니다.

Plasma와 연관성이 없을 수 있는 질문인데요..

Si Wafer가 ESC Chucking  Voltage의 Damage(??)에 의해 Edge Broken이 발생할 수 있는지 궁금합니다. (2500v)

ESC를 사용하다가 1년 이상되면 Broken이 발생하고, Broken 주기는 점점 빨라집니다.

ESC의 오랜 사용에 의한 노화 현상은 맞는거 같은데 어떤 영향성으로 발생하는지 궁금해서요...(ESC 교체시 정상되네요)

Plasma On/Off와는 연관성이 없었습니다.



이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75427
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67556
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89368
348 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2221
347 RF matcher와 particle 관계 [2] 2212
346 Wafer particle 성분 분석 [1] 2177
345 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2172
344 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2168
343 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2157
342 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2145
341 플라즈마볼 제작시 [1] file 2126
340 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2109
339 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2102
338 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2097
337 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2094
336 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2083
335 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2078
334 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2066
333 etching에 관한 질문입니다. [1] 2038
332 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2017
331 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2007
330 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2006
329 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1974
쓰기
태그

Boards

XE Login