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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69616
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403 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [Polymer coating 식각] [1] 2439
402 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2416
401 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 2406
400 etching에 관한 질문입니다. [충돌 현상 및 이온화 과정] [1] 2406
399 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2399
398 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2396
397 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2394
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395 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2345
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393 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해] [1] 2305
392 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2260
391 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치] [1] 2260
390 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2247
389 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2241
388 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2233
387 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성] [1] 2233
386 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2216
385 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2198
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