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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[143]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RIE에서 O2역할이 궁금합니다
[4] | 1587 |
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DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1587 |
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플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1568 |
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275 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
[1] | 1559 |
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274 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1541 |
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273 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1539 |
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272 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1528 |
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질문있습니다.
[1] | 1528 |
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270 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1513 |
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269 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 1506 |
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268 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1502 |
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267 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1495 |
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266 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1493 |
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265 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 1479 |
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264 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1466 |
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263 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1463 |
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262 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1461 |
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261 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1434 |
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260 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1428 |
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259 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
[1] | 1395 |
