Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.

2017.08.03 10:57

세종 조회 수:9519

안녕하세요. 

저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.

장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.

즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...

일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
369 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3298
368 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3324
367 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3325
366 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3383
365 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3407
364 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3411
363 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3443
362 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3444
361 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3510
360 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3527
359 ESC Cooling gas 관련 [1] 3533
358 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3533
357 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3557
356 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3617
355 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3646
354 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3688
353 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3704
352 Descum 관련 문의 사항. [1] 3721
351 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3749
350 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3770
쓰기
태그

Boards

XE Login