Others 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.

2017.01.04 11:49

최찬 조회 수:1736

안녕하세요 RGA에 관하여 궁금한 점이 있습니다.


지금 저희가 사용하는 RGA는 인피콘 Transpector MPH 이고 SUS진공챔버에 사용하고 있습니다.


RGA 운용은 -3~4Pa 이하대에서 진행하고 있고 SUS챔버 Baking 시 잔류가스분석에 사용하고 있습니다.


한번 사용 할 때마다 70시간 정도씩 외벽90도(내벽130도)로 사용하고 있는데 이온소스가 오염되는 현상이 일어나고 있습니다.


혹시 RGA 이온소스 오염 원인에 대해서 알 수 있을까요? 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75021
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18862
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56341
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66848
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88322
299 RF matcher와 particle 관계 [2] 1794
298 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1778
297 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1776
296 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 1771
295 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1771
294 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1747
293 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1744
292 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1738
» 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1736
290 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1733
289 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1722
288 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1711
287 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1706
286 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1701
285 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 1683
284 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1670
283 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1644
282 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1642
281 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1625
280 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1614
쓰기
태그

Boards

XE Login