Sputtering Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다.
2010.12.16 20:59
안녕하십니까?
Sputter Process 에 대해 담당중인 1인 입니다.
몇가지 문의점이 있어 문의 드립니다.
1. Sputter 시에 Gas Reaction 의 반응은 어떻게 일어나는 것인지 궁금합니다.
저희는 주로 O2, N2, CH4, NO 등등의 반응성 Gas 를 사용하여 막질의 변형을 이루고자 하고 있습니다.
이러한 Gas 들의 반응에 대하여 알 수 있는 방법이 없을까요?
반응들이 일어나는 Mechanism 을 알 수 있다면 막질에 대해 좀 더 정확한 평가가 가능하지 않을까요?
2. 현재 Glass 기판에 Sputter 증착을 한 후 SEM 으로 관찰을 진행하고 있습니다.
그런데, 박막 표면에서의 Charging 현상이 덜 하여 관찰이 가능한 샘플이 있는 반면,
일부는 Charging 현상이 심하여 SEM 으로는 관찰이 어렵습니다.(Gas 종은 위의 Gas 들을 사용하고 있습니다.)
기판 표면을 SEM 으로 관찰하고자 할 때, 이러한 Charging 현상을 감소 시킬 수 있는 방안은 어떤 것들이 있을까요?
어떤 Parameter 들의 영향인지 궁금합니다.
답변 부탁드립니다.
감사합니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76712 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20168 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68692 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92268 |
348 | RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 | 2281 |
347 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2763 |
346 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 679 |
345 | Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] | 3523 |
344 | O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] | 6404 |
343 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8593 |
342 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1900 |
341 | 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] | 432 |
340 | 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] | 917 |
339 | RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] | 5146 |
338 | 가입인사드립니다. [1] | 1880 |
337 | 문의 드립니다. [1] | 866 |
336 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 657 |
335 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1402 |
334 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1422 |
333 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1021 |
332 | O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] | 6174 |
331 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1444 |
330 | 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate | 373 |
329 | 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] | 5899 |