>안녕하세요
>제가 ICP 장비에서 플라즈마를 이용한 표면 처리 실험을 하고 있습니다.
>챔버내에 O2와 H2 가스를 혼합하여 플라즈마를 띄웠습니다.
>공정 압력은 10-3 torr 정도 이고 가스유량은 산소 10 : 수소 50 ~ 산소 50 : 수소 50 sccm 입니다.
>궁금한거는 산소와 수소가 만나면 폭발을 할 위험이 있는데요 안전한건지 궁금합니다.
>안전하다면 왜 안전 한건지 이유도 같이 알려 주시면 감사 하겠습니다.
>그리고 H2/O2 비율과 압력대 관련 가용영역 이러한 자료는 어디에서 구할수가 있을가요??
>인터넷으로 검색을 한다면 무슨 제목으로 검색을 해야 할가요? 현재 한참 검색을 해보았는데 아직 관련 자료응 얻지 못하였습니다.
>
>그리고 만일 안전 하다면... 혹시 고진공 수소와 산소 혼합가스로 플라즈마를 생성하는 과정에서 챔버내에 불꽃이나 스파크가 일어 난다면 그때는 폭발의 위험성이 큰거 겠죠??



아 제가 그 글을 읽고 이 글을 작성하였습니다.. 그 글을 읽었는데 아직 잘 모르는 부분이 있어서 이 글을 남겼는데요.. 잘모르는 부분은 위 글에서 처럼

1. H2/O2 비율과 압력대 관련 가용역영 << 이자료를 여기저기 찾아 보았는데 아직 못찾아서요 혹시 찾을수 있을 만한 곳을 아시면 알려 주시면 감사 하겠습니다.
2. 그리고 안전한 이유는 그냥 고진공에서는 H2/O2 혼합하여도 고진공이라 안전한건가요?? 안전한 이유도 알려주시면 감사 하겠습니다.
3. 그리고 마지막으로 챔버내에서 수소/산소 혼합가스로 플라즈마 생성하는 과정에서 불꽃이나 스파크가 일어난다면 그때의 폭발 위험성은 어떻게 되는지 이렇게가 가장 궁금한 점입니다.

알고 계신 다면 알려주시면 정말 감사 하겠습니다~ 2010-11-29
12:11:27



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [131] 5627
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16931
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51354
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64230
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84400
250 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6495
249 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7574
248 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 9969
247 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 7913
246 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 20474
245 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15753
244 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15521
243 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 20042
242 cross section 질문 [1] 19334
241 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 28267
240 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17190
239 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 20886
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24335
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22419
236 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19681
235 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] 20137
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31098

Boards


XE Login