공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[268]
| 76712 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20168 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57164 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68690 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92262 |
348 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다.
[1] | 3893 |
347 |
Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
[3] | 3912 |
346 |
ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다
[2] | 3953 |
345 |
Plasma 식각 test 관련 문의
[1] | 3963 |
344 |
the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문
[1] | 3977 |
343 |
RPSC 관련 질문입니다.
[2] | 4008 |
342 |
SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문
[1] | 4141 |
341 |
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성
[1] | 4175 |
340 |
플라즈마 색 관찰
[1] | 4253 |
339 |
Dry Etching Uniformity 개선 방법
[2] | 4266 |
338 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
| 4318 |
337 |
챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다.
[3] | 4481 |
336 |
Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다.
[1] | 4800 |
335 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] | 4911 |
334 |
매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~
[1] | 5063 |
333 |
RF power에 대한 설명 요청드립니다.
[1] | 5146 |
332 |
SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다.
[1] | 5265 |
331 |
DRAM과 NAND에칭 공정의 차이
[1] | 5452 |
330 |
ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
[1] | 5518 |
329 |
RF Vpp 관련하여 문의드립니다.
[1] | 5676 |
공정 플라즈마와 관련된 강의는 학회 및 교육기관에서 외부인을 대상으로 진행하는 강의를 수강하는 편이 좋을 것 같습니다. 해당 강의0 들은 현업의 사례에서 다루는 플라즈마를 소개할 것입니다. 예전에는 한국기술교육대학에서 정기적인 강의가 있었고 최근에 학회에서 진행되는 강의는 진공학회 (www.kvs.or.kr) 춘계 학술대회 기간 중 (2017년 2월 15일(수) ~ 2월 17일(금)/ 강원도 횡성) 목요일에 "플라즈마 진단" 주제의 기술 심포지움이 있습니다. 참고하세요. 아울러 공정 플라즈마 관련 대학원생들에게 제공된 강의인 PSES-net 플라즈마 교육 프로그램이 올해 진행되면 저희 홈페이지에서 공지를 할 것이 참고하시기 바랍니다.
또한 참고로 추천드릴 교재는 정진욱교수님 역저인 "공정플라즈마 기초와 응용"이 있고, 심화 과정으로는 Principles of plasma discharges and material processings (Lieberman and Lichtenberg) 교재를 권합니다.