질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:86109 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73081
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17644
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65739
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86109
267 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1515
266 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1510
265 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1509
264 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1501
263 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1498
262 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1494
261 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1481
260 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1478
259 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1468
258 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1468
257 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1447
256 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1445
255 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1442
254 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1408
253 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1391
252 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1389
251 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1382
250 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1360
249 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1357
248 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1345
쓰기
태그

Boards

XE Login