Sputtering 몇가지 질문있습니다

2009.11.10 20:51

정세훈 조회 수:16578 추천:139

안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
답변부탁드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76661
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92148
327 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1786
326 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1777
325 터보펌프 에러관련 [1] 1751
324 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1743
323 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1730
322 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1713
321 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1700
320 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1684
319 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1682
318 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1669
317 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1666
316 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1658
315 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1657
314 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1638
313 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1604
312 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1599
311 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1595
310 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1593
309 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1558
308 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533

Boards


XE Login