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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
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Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장]
[1] | 1941 |
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap]
[1] | 1940 |
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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가입인사드립니다.
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CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information]
[1] | 1913 |
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standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계]
[1] | 1882 |
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ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition]
[1] | 1865 |
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RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law]
[1] | 1862 |
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353 |
Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응]
[1] | 1857 |
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터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력]
[1] | 1843 |
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CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
[3] | 1829 |
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
[1] | 1812 |
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Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어]
[1] | 1807 |
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압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 1789 |
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다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma]
[1] | 1780 |
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 1743 |
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Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]
[1] | 1740 |
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Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence]
[1] | 1735 |
