ATM Plasma 대기압플라즈마를 이용한 세정장치

2004.07.02 00:41

이석근 조회 수:21540 추천:312

질문 ::

또한 유리표면을 프라즈마로 처리할 경우 Clean도를 향상할 수 있는지,
즉 유리표면에 묻은 이물질 제거에 플라즈마를 활용할 수 있는지요?

대기압에서 플라즈마를 생성하는데 필요 에너지 소비량은 얼마나 되는지요?
유리의 면적이 300 by 300mm 정도 되는데 이 정도의 면적을 처리하고자 하는데...
---------
대기압에서 플라즈마를 생성하는데 필요 에너지 소비량은 얼마나 되는지요?

또한 유리표면을 플라즈마로 처리할 경우 Clean도를 향상할 수 있는지,
즉 유리표면에 묻은 이물질 제거에 플라즈마를 활용할 수 있는지요?


답변 ::

유전체 표면의 세정을 목적으로 사용하는 플라즈마 장치로는 상압 DBD 장치가 있습니다. 대부분 이 방법을 이용하여 세정장치를 만들고 있으며 이 연구가 1860년 부터 오존 발생기 연구에서 부터 시작되었습니다. DBD로부터 만들어지는 오존과 방전중에 형성되는 UV가 시편 표면의 세정을 이룰 수 있게 합니다. 비교적 장치는 간단하고 역사도 긴데 비해서 양한 장치를 만들어 실험을 하는데 치우쳐서 인지 이에 대한 연구는 매우 미비한 실정입니다. 또한 DBD 플라즈마는 매우 작은 영역에서 높은 충돌성을 내재하고 있기 때문에 그 측정이 어려울 수 밖에 없어, 이 또한 연구에 큰 장애요인으로 작용합니다.

아무튼 DBD 방전기의 설계에는 입력 전력의 특성, 반응기의 구조적 특성과 입력 개스의 조절이 관건이며 특히 반응기의 전력은 플라즈마 발생과 많은 부분 반응기의 절연체에서 소모되고 있으니 이점을 유의하여 설계하여야 할 것 입니다. 아울러 입력 전력의 특성도 발생 플라즈마의 특성을 크게 변화합니다. 하지만 이에 대한 정리된 결과가 보고되어 있지 않음으로 많은 부분은 기업이 갖고 있는 knowhow에 기초하여야 할 것 입니다.

저희 실험실에 얻은 발생 플라즈마 생성 소비 전력은 단위 면적당 반응기 정전 용량 값 [pF/m^2], 0.2-0.8 인 경우 1-8e7 [W/m^3]으로 관찰되었고 이 경우는 kHz 정도의 square wave 입력 파형에 얻은 결과임을 참고하기 바랍니다.  


특성을 측이부분에는 많은 중소기업이 장비 개발에 정진하고 있으며 그 이유중에 장비가 비교적 복잡하지 않아 보여 쉽게 접근 할 수 있기도 합니다. 1860년 경부터 DBD의 연구가 되어 왔으니 많은 knowhow들이 축적되어 있기도 합니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68680
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
327 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6236
326 핵융합 질문 [1] 567
325 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 635
324 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1959
323 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7647
322 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1269
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1407
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5254
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5988
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8114
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6066
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2491
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3890
314 Ar plasma power/time [1] 1435
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4004
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17431
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1386
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7214
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1943
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11387

Boards


XE Login