Others 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...

2009.03.20 12:36

기계공학사 조회 수:26468 추천:279

RF에 관심이 많은 학구파 기계공학 엔지니어 입니다.

제목에서와 같이 공정챔버에서의 아킹원인과 노이즈에 관해 궁금한 것이 있어서 입니다.

우선 아킹(번개 등)의 원인이 전하차에 의해 높은곳에서 낮은 곳으로 이동하면서 생기는 것으로 알고있습니다.

저희 공정챔버의 경우 기존 제품은 나름대로 양호하나, 현재 개조된 챔버에 대해서는

상당한 아킹과 노이즈를 겪고 있습니다.

우선, 개조사양은

챔버의 체적이 약 15% 커짐(고진공상태;100mTorr이하)

상부 안테나와 접하는 세라믹 순도가 99.98->99.99%로 변경(큰 영향은 없을 것으로 보임)

상부 안테나의 상부를 커버하는 알루미늄재질의 커버가 기존대비 약 10% 늘어남.

RF 구동 조건은

상부 13.56Mhz 약 5,000W
하부 13.56Mhz 약 7,000W

이며, 접지는 제3종 일것으로 생각됩니다.

여기서 아킹의 원인과 노이즈가 발생할 만한 것이 있을 수 있는지?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
329 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5900
328 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 962
327 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6247
326 핵융합 질문 [1] 567
325 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
324 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1963
323 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7649
322 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1273
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1409
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5268
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5996
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8135
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6069
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2493
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3907
314 Ar plasma power/time [1] 1437
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4010
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17446
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1388
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7226

Boards


XE Login