Plasma Source Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.

2020.02.02 02:25

굴음히 조회 수:17672

안녕하세요 저는 반도체관련 업체에서 일하고 있는 최철운입니다.

ESC쪽을 공부하면서 Plasma Dechuck process가 궁금해졌는데요.

J-R TYPE ESC 같은 경우 일반적으로  ESC쪽의 Voltage를 끈 후 wafer의 잔여 전하를 Plasma를 이용해 dechuck을 한다고하는데 이는 어떤 process로 행해지는 지 궁금합니다. 체 추측으로는 plasma들이 wafer를 때리면서 중성화를 시켜 dechuck을 시킨다고 생각이 되는데 맞는지요?


또한 궁금한게 Columb Force방식의 ESC는 voltage를 끌시 잔여 전하가 남지 않기때문에 바로 Dechuck이 되며 plasma를 킬필요가 없다고하는데 Plasma dechuck을 사용하여 particle 개선 효과가 있는지 궁금합니다.

 Plasma Dechuck을 사용할시 챔버 내의  잔류 가스들을 가두고 wafer표면에 떨어지게 막으면서 pump쪽으로 흐르게하는 것인가요? 어떤 원리로 particle 제거 효과가 있는지... 궁금합니다.


감사합니다~

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20189
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
329 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5677
328 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5806
327 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5841
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5900
325 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5927
324 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5996
323 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6069
322 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6179
321 자료 요청드립니다. [1] 6206
320 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6247
319 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6269
318 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6365
317 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6409
316 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
315 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6418
314 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6436
313 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6465
312 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6470
311 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6492
310 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
쓰기
태그

Boards

XE Login